JELIGHT UVO-Cleaner Model 42  紫外臭氧清洗機(jī)

簡介

UV+O(原子氧)清潔法是一種光敏氧化過程，其中光抗蝕劑、樹脂、人體皮膚油、清潔溶劑殘留物、硅油和助熔劑的污染物分子通過短波紫外線輻射的吸收被激發(fā)和/或解離。分子氧經(jīng)184.9nm分解，臭氧經(jīng)253.7nm分解，同時(shí)生成原子氧。

253.7nm輻射被大多數(shù)碳?xì)浠衔锖统粞跷?。污染物分子的這種激發(fā)產(chǎn)物與氧原子反應(yīng)，形成更簡單的揮發(fā)性分子，從表面解吸。因此，當(dāng)兩種波長同時(shí)存在時(shí)，原子氧不斷產(chǎn)生，臭氧不斷形成和破壞。

通過將適當(dāng)?shù)念A(yù)清潔樣品放置在臭氧產(chǎn)生UV源的5毫米范圍內(nèi)，例如UVO-Cleaner®內(nèi)部的低壓汞蒸汽網(wǎng)格燈，可以在不到一分鐘的時(shí)間內(nèi)實(shí)現(xiàn)接近原子清潔的表面。此外，該工藝不會(huì)損壞MOS柵氧化物的任何敏感器件結(jié)構(gòu)。

ufo - cleaner®是去除硅，砷化鎵，石英，藍(lán)寶石，玻璃，云母，陶瓷，金屬和導(dǎo)電聚酰亞胺水泥中的有機(jī)污染物的安全，有效的方法。它的建造壽命長，維護(hù)成本低，服務(wù)無故障。

應(yīng)用程序:

•在薄膜沉積/剝離和穩(wěn)定光刻膠之前清洗襯底

•硅片、透鏡、反射鏡、太陽能電池板、冷軋鋼、慣性制導(dǎo)子組件和GaAs晶圓的清洗

•焊劑、混合電路和平板LCD的清洗

•蝕刻Teflon®，Viton®和其他有機(jī)材料

•增強(qiáng)GaAs和Si的氧化鈍化表面

•減少玻璃的放氣

去除晶圓膠帶

•提高涂料對(duì)塑料的附著力

•測(cè)試后從晶圓上去除油墨

•剝離光刻膠

•從光刻板中去除潛在圖像

•清洗光刻版

•在硅片上生長氧化層

•在包裝/粘合前清洗電路板

•增加表面親水特性

•生物科學(xué)應(yīng)用的清洗和滅菌

•清洗電子顯微鏡探針/載玻片或光纖/透鏡

 

紫外清洗優(yōu)點(diǎn)

1. 被清洗的表面除了光子，不與任何物體發(fā)生接觸，有機(jī)物經(jīng)過紫外光照射發(fā)生光敏氧化反應(yīng)后，生成可揮發(fā)性氣體 （CO2、CO、H2O） 等從表面消散，隨著排風(fēng)系統(tǒng)抽走。

2. 表面潔凈度高，且不會(huì)像溶液清洗時(shí)發(fā)生二次污染。

3. 光清洗的表面不會(huì)受到損傷，由于光子的能量相對(duì)比氬等離子體濺射或惰性氣體離子轟擊的能量小，光清洗后的表面不會(huì)受到損傷或發(fā)生晶體缺陷的現(xiàn)象。

4. 光清洗對(duì)物體表面微細(xì)部位（如孔穴、微細(xì)溝槽等）具有有效而徹底的清洗效果。 由于紫外光是納米短波紫外線，能夠射入材料表面的極為細(xì)微的部位，發(fā)生光敏氧化反應(yīng)，充分表現(xiàn)出光清洗的徹底性。

 

可選設(shè)備：

所有裝置均配有臭氧殺滅器和鼓風(fēng)機(jī)套件，無需外部排氣即可使用該裝置。臭氧殺手將解離排氣中的微量臭氧，而鼓風(fēng)機(jī)將增加排氣流量。

 

單位尺寸可根據(jù)客戶需求定制?？赡苄枰Ц额~外費(fèi)用。

 

設(shè)備提供以下電源配置：

120V/60Hz 220V/50Hz

 

220V/60Hz

100V 50/60Hz

 

**臭氧濃度以及樣品與紫外線源之間的距離會(huì)極大地影響清潔速率。

Outer Dimensions

Length      Width         Height        Exhaust Port        Media Inlet Port (2x)

350 mm   220 mm     225 mm      50.8 mm               9.5 mm 

Tray Dimensions

Width        Length          Height (Adjustment Range)

165 mm    165 mm]       6 mm ~ 38 mm 

Grid Lamp

Type                                                      Average Intensity                        Distance Measured Away From Lamp

Low Pressure Mercury (Hg) Vapor      28 ~ 32 mW/cm² @ 253.7 nm              .12” ~ .20” [3 ~ 5 mm]

Electrical Characteristics

Output Power

Voltage                  Current

6000 Vpeak-peak    30 mA

Available Input Power Requirements

Model                     Voltage                             Frequency             Current

42                              120 VAC                          60 Hz                    2.0 A

42-220                      220 VAC                         50 Hz                    3.0 A

42-220-60                 220 VAC                         60 Hz                    2.0 A

42-100                      100 VAC                         50/60 Hz                    2.0 A

42 W/ ELAPSE TIMER        120 VAC, 220VAC          60 Hz, 50Hz                    2.0 A, 3.0A

 

• 

  北京理工大學(xué)催化氧化實(shí)驗(yàn)

• 

  清華大學(xué)水處理臭氧氧化實(shí)驗(yàn)

• 

  德國BMT臭氧發(fā)生器與965bt臭氧檢測(cè)儀組合現(xiàn)場

• 

  北京交通大學(xué)臭氧高級(jí)氧化現(xiàn)場

• 

  清華大學(xué)煤化廢水處理實(shí)驗(yàn)

• 

  低氣量高精度臭氧發(fā)生器配置現(xiàn)場

• 

  某醫(yī)科大學(xué)臭氧小鼠暴漏實(shí)驗(yàn)現(xiàn)場

• 

  某大學(xué)臭氧催化氧化實(shí)驗(yàn)設(shè)備使用現(xiàn)場

• 

  北京理工大學(xué)水處理微污染物去除

• 

  某科研單位臭氧微納米氣泡系統(tǒng)調(diào)試完畢

• 

  北京工商大學(xué)高濃度臭氧水

• 

  中科院臭氧催化氧化一套實(shí)驗(yàn)裝置測(cè)試完畢

Q： 臭氧輔助氧化法前驅(qū)體處理及管式爐退火機(jī)理
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